ITO에 대한 기본적인 이론을 숙지하고, 직접 제작을 통해 제작 과정과 막 특성 평가를 통해 실제 ITO와의 차이를 비교해보고 고찰하자.
2. 실험 관련 이론
▒ 스퍼터링
스퍼터링은 스퍼터링 가스를 진공챔너 내로 주입하여 박막으로 입힐 타겟물질과 충돌시켜 플라즈마를 생성시킨 후 이를 기판에 증착시키는 방법이다. 일반적으로 사용되는 스퍼터링 가스는 Ar을 사용한다. 스퍼터 장치는 음극에 타겟을, 양극에 기판을 연결한다. 전원을 공급하면 주입된 스퍼터링 가스(Ar)는 음극 쪽에서 방출된 전자와 충돌하여 여기상태의 Ar+로 되고 이 여기된 가스는 음극인 타겟 쪽으로 끌리며 충돌하고 플라즈마가 발생한다. 절연체와 같은 부도체는 교류 전원을 사용하여 박막을 만드는데, 교류전원은 13.56 ㎒의 주파수를 가지며 이를 RF라 한다. 이러한 교류 전원을 사용하는 스퍼터링 법을 교류스퍼터링(RF sputtering)이라 한다.
2012.05.09
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