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공학 - 플라즈마에 관해서[정의, ICP, CCP, 스퍼터링 (sputtering)]
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공학 - 플라즈마에 관해서[정의, ICP, CCP, 스퍼터링 (sputtering)]
목 차
1.플라즈마란
2.ICP , CCP
3.스퍼터링 (sputtering)
참고문헌
1.플라즈마란
[그림 1] 플라즈마
1)정의 및 특징
“이온화한 기체”를 말한다. 우리는 이러한 상태를 고체, 액체 ,기체도 아닌 “물질의 제 4상태”라고 말하기도 한다. 플라즈마는 우리가 생각하는 고체보다고 높은 밀도로 압축할 수 있고 기체 상태와 같이 낮은 압력에서도 존재한다.
기체 입자에 에너지가 가해지면 (일반적으로 가속된 전자의 충돌에 의하여 에너지가 전달되거나 그 외에도 열이나 micro-wave에 의해서도 가능) 최외각 전자가 궤도를 이탈해 자유 전자가 되기 때문에 기체 입자는 양전하를 갖게 된다, 이렇게 형성된 전자들과 이온화된 기체 입자들 다수가 모여 전체적으로 전지적인 중성을 유지하며 구성 입자들간의 상호작용에 의해서 독특한 빛을 방출하고 입자들이 활성화되어 높은 반응성을 갖게 되는데 이러한 상태를 흔히 이온화환 기체 또는 플라즈마라 말한다. 플라즈마는 전자밀도와 온도에 따라 다양한 형태에서 나타난다. 우리는 주위에서 많은 플라즈마를 접할 수 있다. 번개가 칠 때나 거리의 네온싸인이던지, 극지에서 볼 수 있는 오로라등도 플라즈마의 한 형상이다. 우리가 매일 보고 있는 태양도 플라즈마라고 말할 수 있다.
2)구성
일반적으로 플라즈마는 동수의 양(+),음(-)의 전위를 갖는 소립자(전자,이온등)을 포함하고 있는 부분적으로 이온화한 가스를 말한다. 즉(-)전위를 갖는 전자, (+) 전위를 갖는 전자, (+)전위를 갖는 이온 , 아직은 이온화되지 않은 자연상태의 원자나 분자로 구성되어 있다.
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2013.12.26
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